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            產品詳情
            • 產品名稱:多源高真空蒸發鍍膜儀

            • 產品型號:
            • 產品廠商:泰諾
            • 產品文檔:
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            簡單介紹:
            多源高真空蒸發鍍膜儀兩組鎢舟蒸發源*高可達3000℃,可實現多種難熔金屬的蒸鍍,該多源高真空蒸發鍍膜儀分采用觸控屏和按鈕面板相結合的設計,真空系統、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作。
            詳情介紹:

            本設備為多源高真空蒸發鍍膜儀,設備采用前開門式真空腔體設計,腔體空間大,可拓展性強,能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發鍍膜。腔體內配有上置樣品臺,可根據用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉、加熱及升降,所有操作均通過觸控屏集成控制。設備的真空泵組為兩級式真空系統,由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組,可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環境;真空系統內含有完善的氣動閥系統,用戶可通過觸控屏進行一鍵式操作實現抽取真空、不停機取放樣、完全停機等操作。

            本設備的蒸發源共兩組,采取鎢舟蒸發源,水冷式銅電極,可*大支持300A的大電流,加熱溫度*高可達3000℃,可實現多種難熔金屬的蒸鍍。本設備采用一體化設計,腔體和電控部分左右分置,實現了水電分離,有力的保證了用戶的安全。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結合的設計,真空系統、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作,通電蒸發、膜厚控制等通過面板獨立操作,在盡可能方便用戶的同時規避了誤操作的可能。該設備設計完善性能優越,是實驗室高精度蒸發鍍膜試驗的必備之選。


            名稱
            多源高真空蒸發鍍膜儀
            特點


            • 蒸發源共兩組,
            • 采取鎢舟蒸發源,加熱溫度*高可達3000℃,可實現多種難熔金屬的蒸鍍
            • 腔體和電控部分左右分置,實現了水電分離
            • 真空系統、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作
            • 通電蒸發、膜厚控制等通過面板獨立操作


            術參數
            1. 樣品臺 *大支持φ150mm樣品 高度 上下70mm可調
            2. 蒸發源: 鎢舟x2 
            3. 真空腔體: 腔體材料 304不銹鋼,尺寸 φ300x400mm 觀察窗 前置φ100mm含遮光片,開啟方式 前開門式
            4. 膜厚控制晶振式膜厚測量儀,可選多通道膜厚控制儀
            5. 真空系統: 前級泵 雙極旋片 抽氣接口 KF16
            6. 次級泵 渦輪分子泵 抽氣接口 CF160
            7. 真空測量 電阻+電離 復合真空規
            8.                  排氣速率 機械泵1.1L/s, 分子泵 600L/s; 抽氣速率 旋片泵:1.1L/S 
            9. 極限真空 1.0E-5Pa
            10.   供電電源 AC 220V 50/60Hz
            11. 流量計一路質量流量計 500sccm Ar氣
            12. 控制系統: PLC自動控制
            13. 操作界面:觸控屏+操作面板
            規格
            供電電壓 AC380V,50Hz
            整機功率 5kW 整機重量 350kg
            整機尺寸 1000mm X 800mm X 1500mm



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