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            產品詳情
            • 產品名稱:高真空多弧離子鍍膜儀

            • 產品型號:CY- MIOP500
            • 產品廠商:泰諾
            • 產品文檔:
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            簡單介紹:
            高真空多弧離子鍍膜儀制備多元非晶合金,制備金屬化合物,如氧化物和氮化物薄膜(氧氣或氮氣氛圍),制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制備熱電效應薄膜
            詳情介紹:

            CY- MIOP500 為高真空多弧離子鍍膜儀,利用電弧放電將導電材料離子化,利用其繞射性好的優勢,產生高能離子并沉積在基底上(特別是泡沫鎳等多孔基底),制備納米級薄膜鍍層或納米顆粒。主要由鍍膜室、多弧靶、多弧電源、脈沖偏壓電源、樣品臺、加熱、真空系統、氣路系統、PLC+觸摸屏半自動控制系統等組成;該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。該系列設備廣泛應用于高校、科研院所的教學、科研實驗以及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等,深受廣大用戶好評。

            高真空多弧離子鍍膜儀

            高真空多弧離子鍍膜儀主要用途: 

            制備多元非晶合金,制備金屬化合物,如氧化物和氮化物薄膜(氧氣或氮氣氛圍),制備納米顆粒催化劑膜,用熱電材料靶材制備熱電效應薄膜。

            高真空多弧離子鍍膜儀主要技術參數:

             

            1.真空腔室

            Ф500×H420mm,304 上等不銹鋼,前開門結構; 腔室加熱溫度:室溫350±1℃;

            2.真空系統

            復合分子泵+直聯旋片泵+高真空閥門組合的高真空系統,數顯復合真空計;

            3.真空極限

            6.0×10-5Pa,;

            4.漏率

            設備升壓率≤0.8Pa/h;

            設備保壓:停泵 12 小時候后,真空≤10Pa;

            5.抽速

            ( 5.0×10-3Pa15min;

            6.基片臺尺寸

            Φ150mm,自轉工位 3 個;

            7.基片臺旋轉

            基片旋轉:0~20 轉/分鐘;

            8.濺射靶

            DN100 新型磁過濾多弧靶 2

            9.脈沖偏壓電源

            -1000V,1 套;

            11.控制方式

            PLC+觸摸屏人機界面半自動控制系統;

            12.報警及保護

            對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警并執行相應保護措施;完善 的邏輯程序互鎖保護系統;

            13.占地

            (主機)L1900×W800×H1900(mm)。


             
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